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产品展示
扩散炉--两管扩散炉--青岛晨立电子
- 价格¥58000.00/台
- 最小采购量至少1台
- 品牌晨立
- 所在地区山东 青岛 即墨
详细介绍
型号 | CL4514-2 | 产品别名 | 扩散炉 |
---|---|---|---|
用途 | 扩散、氧化、退火、合金等工艺 | 适用行业 | 电力电子器件、玻封二级管、热敏电阻等器件 |
产品用途 | 对所加工硅片进行扩散等工艺 | 规格 | 定制 |
工作温度 | 200℃—1300℃ | 可控降温速率 | 5℃/min |
控制方式 | 工控机、触摸屏 |
两管扩散炉
外型形式:
卧式2管结构扩散炉主要满足半导体电力电子器件行业、大功率集成电路等行业,对所加工硅片进行扩散、氧化、退火、合金等工艺。主要由扩散炉加热炉体、气源系统、控制系统、超净化操作系统等组成。选用工控机微控方式或者程控方式操作。
技术指标: 可处理硅片尺寸:2—8英寸
工作温度:200℃—1300℃
恒温区长度及精度:200mm—100mm≤±0.5℃
单点温度稳定性、重复性:≤±1.5℃/24h
温度斜变:可控升温速率20℃/min,
可控降温速率:5℃/min
送片装置:全自动悬臂推拉舟、拉杆是推拉舟、手动推拉
气路系统:1—5路工艺气体/管
气体控制:全自动MFC、手动浮子流量计
控制方式:工控机、触摸屏
外型形式:
卧式2管结构扩散炉主要满足半导体电力电子器件行业、大功率集成电路等行业,对所加工硅片进行扩散、氧化、退火、合金等工艺。主要由扩散炉加热炉体、气源系统、控制系统、超净化操作系统等组成。选用工控机微控方式或者程控方式操作。
技术指标: 可处理硅片尺寸:2—8英寸
工作温度:200℃—1300℃
恒温区长度及精度:200mm—100mm≤±0.5℃
单点温度稳定性、重复性:≤±1.5℃/24h
温度斜变:可控升温速率20℃/min,
可控降温速率:5℃/min
送片装置:全自动悬臂推拉舟、拉杆是推拉舟、手动推拉
气路系统:1—5路工艺气体/管
气体控制:全自动MFC、手动浮子流量计
控制方式:工控机、触摸屏